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基于金屬有機化學氣相沉積的ε-Ga2O3薄膜的非對稱肖特基結構超高性能日盲光電探測器

更新時間:2021-10-18點擊次數:2379

     Ga2O3有著4.7-5.2eV的寬禁帶,本質上適合日盲光電探測器。Ga2O3有五種同構異形體,單斜β-Ga2O3薄膜因其高溫度穩定性已經有了大量的研究。其他相,特別是α-、γ-、δ-ε-Ga2O3很少被研究。最近由于ε-Ga2O3其有高度對稱的六面體結構有可能將氮化物和ε-Ga2O3結合起來,形成致力于光電應用的III-氧化物/III-氮化物異質結器件結構,因此而廣受科研工作者關注。

在本文中,中國科學技術大學龍世兵課題組通過氯化物輔助MOCVD,成功地生長出了在c-平面藍寶石襯底上的高質量單晶ε-Ga2O3薄膜?;诋愘|ε-Ga2O3薄膜上的,帶有非對稱肖特基電極的日盲光電探測器被構建。此器件表現出高性能日盲特性,的高光-暗電流比(PDCR),Jones的高探測率和%的外量子效率。同時實現了84 A/W的響應率,100 ms的快響應速度。

1.3.1 ε-Ga2O3日盲光電探測器結構

1(a)展示了制備的ε-Ga2O3 SBPD的截面圖。ε-Ga2O3異質外延層生長于藍寶石上,通過MOCVDHCl誘導的生長方式生長。掃描電子顯微鏡圖像顯示MOCVD生長的ε-Ga2O3薄膜的表面形態平整,1(b)ε-Ga2O3外延薄膜的X射線衍射(XRD)圖像展示該薄膜為高晶體質量的純相ε-Ga2O3。圖1(c)ε-Ga2O3薄膜UV-可見光學透射光譜。在低于280nm時,透過急劇下降,表明在此后波長有著很強的吸收能力證實了該薄膜的日盲特性。

 

1. 制備的ε-Ga2O3 SBPD的橫截面示意圖。ε-Ga2O3 外延膜的 (b)X射線衍射圖和(c) 透過譜。

 

1.3.2 ε-Ga2O3日盲光電探測器性能

2(a)ε-Ga2O3 SBPD在黑暗和在254 nm,強度為87 μW/cm²光照下半對數和線性I-V曲線。暗電流在電壓-6V+6V范圍內保持在很低水平,該器件表現出很好的肖特基特性。利用傳輸線模型計算得Ti/Au接觸的接觸電阻率為4.32×10² Ω cm²。此外,ε-Ga2O3薄膜方塊電阻為1.2×Ω/sq。因此,低開態電流可歸因于高平面電阻和接觸電阻。利用對J-V圖線性擬合得φB0.88 eV。

通常來說,光電響應特性依賴于光強。因此,在ε-Ga2O3 SBPD上研究了I-V曲線和光強的關系,如圖2(b)所示??梢钥吹焦怆娏麟S著光強而增加。

我們計算了一些關鍵的品質因數來評估制備的ε-Ga2O3 SBPD的性能,例如響應度(R),探測度(D*)和外量子率(EQE)。該器件在不同光照強度下的關鍵參數在V=6V時被提取,正如圖2(c)(d)所示。正如期待的那樣,光電流隨著光照強度而增大,因為在更高光功率光照下在ε-Ga2O3溝道中有更多的光子被吸收以及更多的光激發載流子產生。因此,PCDR、RD*也會隨著光照強度而增大,表明不會有ε-Ga2O3 SBPD的光或熱引導退化。

 

2. 在暗環境和光照下的線性和半對數坐標下的I-V曲線。(b)在暗環境和光照條件下的半對數坐標的I-V曲線。 (c)光電流和光/暗電流比和(d)響應度和探測率隨光強的變化關系。

 

不同光強及柵壓對ε-Ga2O3日盲光電探測器性能的影響

3(a)為在不同電壓下,光強為87μW/cm²的時光電流隨時間變化的響應特性。光電流隨著偏壓而增大,因為光生載流子被電場加速,因此更多的光生載流子在更高偏壓下被收集。為了獲得精確的響應速度,放大的歸一化時變光電流曲線畫在圖3(b)中,以展示下降過程。下降時間被定義為從90%下降至10%的時間,估算為100ms,與已報導的Ga2O3 探測器相比,這是一個很快的速度??煜陆禃r間可歸功于在通過MOCVD生長的ε-Ga2O3薄膜中,通過氫/氯對深能級陷阱的鈍化,在此過程中HCl作為催化劑。

 

3. 該器件在不同偏壓條件下的時間相應特性。(b)歸一化下降沿過程。(c)ε-Ga2O3 SBPD的反向I-V特性曲線。(d)該器件得到的響應度與衰減時間的關系

 

3(c)為黑暗環境下制備的ε-Ga2O3 SBPD的反向I-V特性曲線,高擊穿電壓使得ε-Ga2O3薄膜有可能被用來制造高增益的光電二極管。在此工作中,在ε-Ga2O3 SBPD上實現了84A/W的響應度,和100ms的快響應速度。如圖3(d)所示。 

中國科學技術大學龍世兵教授課題組簡介

    課題組主要從事寬禁帶半導體氧化鎵材料的生長,器件開發,包括電力電子器件以及紫外探測器件,功率器件模組以及成像系統的開發。主要期望通過優化器件結構的設計,以及完善工藝開發,制備更高性能的功率器件和深紫外探測器件,實現更高的擊穿電壓,更低的導通電阻,更高的響應度和更快的響應速度等。截止目前,龍世兵教授主持國家自然科學基金、科技部(863、973、重大專項、重點研發計劃)、中科院等資助科研項目15項。在Adv. Mater., ACS PhotonicsIEEE Electron Device Lett.等國際學術期刊和會議上發表論文100余篇,SCI他引6300余次,H指數44。

 

文章信息

這一成果以“High-Performance Metal-Organic Chemical Vapor Deposition Grown ε-Ga2O3 Solar-Blind Photodetector With Asymmetric Schottky Electrodes”為題發表在IEEE Electron Device Letters期刊上。中國科學技術大學覃愿為第一作者,龍世兵教授為通訊作者。,

文章信息:IEEE Electron Device Letters, 2019, 40(9), 1475-1478上。

 

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